真空吸盤的特性與應用
回列表隨著半導體的發展與高科技產業的進步，其商品的生產已邁入了「精密化」與「自動化」的高度需求。「真空吸盤」適時的提供了半導體與光電業的應用，研發團隊不斷創新和研究，提供了各種材質予以應用，像是NBR、Silicone、FKM、導電NBR、導電矽膠、PEEK，並且還改善了生產時的印痕產生、ESD、增加良率…等項目。
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一段(通用)：標準平型吸盤，適用表面平整吸附物件，吸附力強、穩定。 |
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一段(薄型)：吸盤唇部非常薄，適用於薄型工件上。 |
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二段：吸盤本身有雙層皺摺，適用於吸附傾斜物件，吸附力強、穩定，另可搭配工程塑膠PEEK配件，做出無痕吸盤，抗靜電ESD吸盤。 |
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三段：吸盤三段式設計，吸盤本身有多層皺摺，提供有效潰縮行程，即使表面不平整之工件，也能使吸盤有效達到完全吸附。 |